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本实用新型的打磨轮校准治具包括支撑座、遮光套件及光校套件；光校套件的设置，使得打磨设备的调校人员能够免去目视观察摩擦轮与基板的相对位置的不便，消除了目视调校打磨设备的误差，提高了调校精度；支撑座的设置，使得工人只需将打磨轮校准治具直接放置于基板上即可对打磨设备的摩擦轮进行调校，还使得工人在完成调校后能够直接将打磨轮校准治具从基板上取走，提高了工人拆装打磨轮校准治具的便捷性；光源框及投屏框的设置，使得工人能够调整光源发生器和光影投射屏与支撑座的相对位置，从而使得治具能够自我调校以克服治具自身的误差
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212444775 U
(45)授权公告日 2021.02.02
(21)申请号 202020668648.7
(22)申请日 2020.04.27
(73)专利权人 康惠(惠州)半导体有限公司
知识产权出版社有限责任公司（原名专利文献出版社）成立于1980年8月，由国家知识产权局主管、主办。长期以来， 知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作， 经过多年来的积累，已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。
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