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- 2023-02-14 发布于四川
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本实用新型揭示一种光学革,其包括:基层,单层或复合层;压纹革层,设置于所述基层的一侧,所述压纹革层远离所述基层的一侧设置有皮质纹理结构,所述压纹革层的厚度不小于50μm;微纳结构层,设置于所述基层的另一侧,所述微纳结构层远离所述基层的一侧设置有复数凸起和/或凹陷的微纳结构;镀膜层,形成于所述微纳结构上;着色层,形成于所述镀膜层背离所述微纳结构层的一侧。光学层的光学效果可使压纹革层的皮质更加亮丽,颜色更加明亮,或者呈现随视觉变化的光影条纹,从而光学革呈现的皮质视感更为出众。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212528973 U
(45)授权公告日 2021.02.12
(21)申请号 202020823880.3 B32B 5/02 (2006.01)
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