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本实用新型涉及薄膜制备技术领域,尤其是一种原子层沉积镀膜设备的上下片系统,其特征在于:包括工艺真空室以及成膜室,其中所述成膜室位于所述工艺真空室的内部,在所述工艺真空室的底部下方设置有载入载出室,所述载入载出室与所述成膜室之间构成连通,所述载入载出室内设置有用于上下片的载台,所述载台连接有升降机构并可在其驱动下沿高度方向自所述载入载出室进出所述内腔成膜室,实现上下片。本实用新型的优点是:能够保证成膜工艺时的密闭性,同时避免微小颗粒物掉落至产品上,从而有效保证产品质量;热量散失小,减少再加热所需的
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212533121 U
(45)授权公告日 2021.02.12
(21)申请号 202021518755.8
(22)申请日 2020.07.28
(73)专利权人 光
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