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- 2023-02-14 发布于四川
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本实用新型公开了一种晶圆级真空封装的MEMS晶振,包括保护盖和MEMS晶振主体,外绝缘层和内绝缘层均为一种绝缘漆材料制成的构件,提高保护盖的绝缘效果,外防腐层和内防腐层均为一种防腐漆材料制成的构件,提高保护盖的防腐效果,进一步提高保护盖的使用寿命,壳体为一种硅钢材料制成的构件,硅钢具有导磁率高、矫顽力低、电阻系数大等特性,进一步提高保护盖的绝缘效果,保护盖与MEMS晶振主体之间形成缓冲空腔,缓冲空腔呈梯形,在MEMS晶振受到外界冲压时,梯形的缓冲空腔使得保护盖在受到冲压时有一定的缓冲空间,降低M
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212532294 U
(45)授权公告日 2021.02.12
(21)申请号 202020842154.6
(22)申请日 2020.05.20
(73)专利权人 加高电子(深圳)有限公司
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