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本实用新型提供一种单晶炉副室清理装置,包括与副室内壁相适配的架体,在所述架体外壁设有清洁件,所述架体的外壁沿其高度方向被所述清洁件全覆盖,所述清洁件与所述副室内壁周缘全接触,从所述架体内侧向所述清洁件提供清洗液,所述清洁件沿所述副室轴线上下移动并可连续清洁所述副室。本实用新型本实用新型提出的清理装置,结构简单且易于控制,可连续全面地清洁副室内壁,无遗漏,清洁质量好且清洁效果一致,清洗液利用率高。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212577070 U
(45)授权公告日 2021.02.23
(21)申请号 202020719449.4 B08B 13/00 (2006.01)
(22)申请日 2
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