CVD生长烧结设备.pdfVIP

下载本文档

3
0
约1.16万字
约 9页
2023-02-15 发布于四川
举报
版权申诉

CVD生长烧结设备.pdf

1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

本实用新型提供CVD生长烧结设备，包括进气设备、真空腔体、等离子发生器、加热设备和加压设备，所述真空腔体用于放置待生长和烧结的基底；所述等离子发生器安装在进气设备和真空腔体之间，所述进气设备输送的生长气体经过等离子发生器电离后进入真空腔体；所述加热设备用于加热真空腔体，提供真空腔体内电离后生长气体在基底生长所需的温度和烧结所需的温度；所述加压设备，用于烧结时对基底施加压力。本实用新型在同一腔体中，实现CVD生长和烧结，避免材料生长和烧结的过程切换设备，经历重复的升降温等过程，降低了生产工序和成本

(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 218465940 U (45)授权公告日 2023.02.10 (21)申请号 202220252866.1 C23C 16/517 (2006.01)