芯轴图形的形成方法.pdfVIP

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2023-02-15 发布于四川
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芯轴图形的形成方法.pdf

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本发明提供了一种芯轴图形的形成方法，包括:提供一衬底，在所述衬底上方依次形成芯轴图形层、过渡层以及图形化的旋涂介质层，所述过渡层的硬度大于所述旋涂介质层的硬度；以图形化的旋涂介质层为掩膜，进行过渡层刻蚀，以形成图形化的过渡层；去除所述图形化的旋涂介质层，并以图形化的过渡层为掩膜，进行芯轴图形层刻蚀，以形成芯轴图形。通过在所述芯轴图形层和图形化的旋涂介质层中间增加过渡层，改变了芯轴图形刻蚀工艺中的膜层结构，既可以降低图形化的旋涂介质层中的有机介电质层的厚度，同时解决了芯轴图形层刻蚀过程中的掩模层厚

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 111403278 A (43)申请公布日 2020.07.10 (21)申请号 20191