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本实用新型公开了一种声波震动半导体晶圆片清洗设备，涉及到半导体晶圆片表面清洗技术领域。包括外壳，所述外壳的内部的底端设置有超声波发生器，所述超声波发生器的一侧设置有频率控制器，所述超声波发生器远离所述频率控制器的一侧设置有电机，所述电机输出轴的端部设置有风扇，所述支撑板一的顶端设置有清洗槽。有益效果：利用超声波发生器产生超声波，再将超声波产生的震动由清洗液产生细小的气泡，细小的气泡附着在晶圆片的表面，利用震动产生的微小气泡将晶圆片表面的污物颗粒带走，使晶圆片表面更加清洁。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212681872 U
(45)授权公告日 2021.03.12
(21)申请号 202020003246.5
(22)申请日 2020.01.02
(73)专利权人 浙江明哲电子科技有限公司
知识产权出版社有限责任公司（原名专利文献出版社）成立于1980年8月，由国家知识产权局主管、主办。长期以来， 知识产权出版社非常重视专利数据资源的建设工作， 经过多年来的积累，已经收藏了数以亿计的中外专利数据资源。
版权声明书
用户编号：8063122115000010
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