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一种真空台面装置.pdfVIP

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  • 2023-02-21 发布于四川
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一种真空台面装置.pdf

    本实用新型公开了一种真空台面装置，包括底座和真空台面组合，所述真空台面组合包括加工台面、密封盖板、真空管接头和加工垫板，所述加工台面的两对侧分别开设有第一凹槽和与加工垫板相配合的第二凹槽，所述第一凹槽底部开设有第三凹槽，所述第三凹槽底部开设有数个第一通孔、一侧开设有第二通孔，所述密封盖板安装在第一凹槽的底部，所述加工垫板上开设有数个第三通孔，所述加工垫板位于第二凹槽中时、其顶面与加工台面平齐，所述真空管接头的一端与第二通孔相通、另一端与抽真空设备相连，所述第三通孔与第一通孔相通，所述加工台面以第

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212736238 U (45)授权公告日 2021.03.19 (21)申请号 202021198249.5 (22)申请日 2020.06.24 (73)专利权人 深圳市华建数控科技有限公司

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