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一种高质量晶片镀膜装置.pdfVIP

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  • 2023-02-21 发布于四川
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一种高质量晶片镀膜装置.pdf

    本实用新型涉及一种晶片镀膜装置，晶体制备技术领域。解决的是现有的晶片镀膜后转移加热过程中易被污染的问题。包括真空壳体、旋转真空装置、加热器和雾化喷嘴，真空壳体的顶部安装有雾化喷嘴，真空壳体的侧壁上均布有加热器，真空壳体下侧安装有旋转真空装置，旋转真空装置包括旋转托盘、外部支撑轴和真空管，旋转托盘与外部支撑轴连接，真空管安装在外部支撑轴侧面，外部支撑轴上加工有真空通道，旋转托盘圆心位置加工有通孔，通孔通过真空通道与真空管连通。箱体内部四周分布的加热器可直接进行加热，对光刻胶进行坚膜，无需进行移动，

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212732748 U (45)授权公告日 2021.03.19 (21)申请号 202021543720.X B05D 3/04 (2006.01) (22)申请日 20

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