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- 2023-02-21 发布于四川
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本实用新型公开了一种晶圆固定装置及晶圆清洁系统,包括底座、旋转台和真空发生装置;所述旋转台可转动的设置在所述底座上;所述旋转台上设有多个连通的导气槽和凸台;所述导气槽与所述真空发生装置连通,晶圆设置在所述凸台上,所述真空发生装置通过在所述导气槽中产生吸附气流,将所述晶圆固定在所述凸台上,通过真空吸附方式将晶圆吸附在旋转台上,避免了人工的接触,从而避免晶圆发生裂片和表面被沾污,同时也能处理晶圆背面的水分,并进行收集处理,保证了晶圆避免水分干燥的全面性,通过旋转台的设置,可以提高晶圆表面的清洁率,减
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212750845 U
(45)授权公告日 2021.03.19
(21)申请号 202021526559.5
(22)申请日 2020.07.23
(73)专利权人 宁波芯健半导体有限公司
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