垂直腔面激光发射装置.pdfVIP

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  • 2023-02-21 发布于四川
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本实用新型提供一种垂直腔面激光发射装置,包括:一陶瓷基板,发射第一波长的第一垂直腔面激光发射二极管,设置在所述基板上;发射第二波长的第二垂直腔面激光发射二极管,设置在所述基板上;以及驱动控制电路,设置在所述基板上,用于驱动所述第一垂直腔面发射激光二极管,并在所述第一垂直腔面发光二极管失效时,启动第二垂直腔面发光二极管。本实用新型提供双波段垂直腔面激光发射装置,可应用于不同的工作环境中。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212751397 U (45)授权公告日 2021.03.19 (21)申请号 202021522349.9 (22)申请日 2020.07.28 (73)专利权人 传周半导体科技(上海)有限公司

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