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真空镀膜设备及镀膜加工 真空镀膜设备及镀膜加工 真空镀膜工艺简介： 真空镀膜学名物理气相沉积 (Physical Vapor Deposition，PVD)， 表示在真空条件下，采用物理方法，将材料源——固体或液体表面气 化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体 （或等离子 体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。 物理 气相沉积的主要方法有，真空蒸镀、溅射镀膜、电弧等离子体镀、离 子镀膜，及分子束外延等。发展到目前，物理气相沉积技术不仅可沉 积金属膜