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- 2023-02-22 发布于四川
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本实用新型公开了一种新型真空对位平台，包括工作平台，所述工作平台的上端左部前后两侧和上端右部前后两侧均活动连接有一个支撑块，两组所述支撑块的上端均穿插连接有一个支撑柱，两组所述支撑柱的上端共同固定安装有对位平台，所述对位平台的上端设置有限位装置，所述工作平台的上端左部中侧和上端右部中侧均固定安装有一个固定板，两个所述固定板的相对面上部共同设置有转动推动装置，所述工作平台的上端前部设置有滑动装置。本实用新型所述的一种新型真空对位平台，推动板围绕第一转轴逆时针方向同步转动时接触到对位平台的底部，进而
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212763356 U
(45)授权公告日 2021.03.23
(21)申请号 202021476672.7
(22)申请日 2020.07.24
(73)专利权人 深圳市永翔顺精密机械有限公司
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