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一种硅通孔结构,包括,晶圆,所述晶圆中形成有芯片及电连接部,所述电连接部与所述芯片电连接;所述晶圆中设置有通孔,所述通孔位于所述电连接部上;所述通孔表面及所述晶圆表面设置有导电层,所述导电层与所述电连接部连接,所述芯片通过所述导电层、电连接部与外部电气连接;所述导电层与所述晶圆表面之间设置有结合块,所述结合块与所述导电层、晶圆之间的结合力大于所述导电层与所述晶圆表面之间的结合力。本申请的硅通孔结构,增强了硅晶圆和导电层之间的结合力,避免硅片和导电层之间出现分层现象,从而提高芯片可靠性。
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 218513453 U
(45)授权公告日 2023.02.21
(21)申请号 202222744203.4
(22)申请日 2022.10.18
(73)专利权人 上海安其威微电子科技有限公司
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