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- 2023-02-23 发布于四川
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本实用新型公开了一种抛光垫,本实用新型涉及抛光垫技术领域,包括抛光垫本体,所述抛光垫本体的顶部开设有凹槽,所述抛光垫本体的外壁安装有安装块,且安装块的一端顶部安装有凸块,所述安装块的一侧安装有遮挡组件,所述遮挡组件包括外挡圈,且外挡圈的顶部开设有排污槽,且排污槽的底部一侧开设有排污孔,所述抛光垫本体的顶部靠近凹槽的一侧开设有圆孔,且圆孔呈矩形阵列分布在抛光垫本体的顶部,本实用新型通过在抛光垫本体外部安装外挡圈,便于将飞溅出来的研磨液集中回收,再对研磨液进行回收处理,通过在抛光垫本体的顶部开设有圆
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212794464 U
(45)授权公告日 2021.03.26
(21)申请号 202021489888.7
(22)申请日 2020.07.25
(73)专利权人 拓高工贸(苏州)有限公司
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