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本实用新型涉及一种双面抛光机压布装置,所属双面研磨抛光机技术领域,包括下转盘,所述的下转盘上设有与下转盘相螺栓连接固定的上压盘,所述的上压盘与下转盘间设有若干呈等间距环形分布的压布滚轮组件,所述的压布滚轮组件与下转盘间设有与下转盘相轴承式嵌套的压布定盘。所述的压布滚轮组件包括碾辊,所述的碾辊两端设有与碾辊相插嵌式限位套接的限位件。具有结构简单、稳定性好、受力均匀度好和省时省力的特点。解决了压布过程中出现粘接不牢和空鼓的问题。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212887041 U
(45)授权公告日 2021.04.06
(21)申请号 202021325899.1
(22)申请日 2020.07.08
(73)专利权人 杭州中欣晶圆半导体股份有限公
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