一种扩散片高透过率均光处理结构.pdfVIP

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  • 2023-02-27 发布于北京
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本实用新型涉及扩散片技术领域,具体为一种扩散片高透过率均光处理结构,包括基材,基材的上方固定连接有第一扩散层,第一扩散层的上表面上固定设置有第一粗糙纹路,第一扩散层的上方固定设置有第二扩散层,第一扩散层与第二扩散层之间固定设置有棱镜片,第一扩散层通过棱镜片与第二扩散层固定连接,第二扩散层的上表面上固定设置有第二粗糙纹路,基材的下方固定连接有抗静电涂布层,抗静电涂布层的下表面上固定设置有第三粗糙纹路。本实用新型,通过设有第一扩散层和第二扩散层以及两层扩散层之间固定连接的棱镜片相互配合使用,保证光的

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212989699 U (45)授权公告日 2021.04.16 (21)申请号 202022064026.6 (22)申请日 2020.09.21 (73)专利权人 江苏南锦电子材料有限公司

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