一种画帖.pdfVIP

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  • 2023-02-27 发布于北京
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本实用新型提供一种画帖,包括若干画帖页,每个所述画帖页均分为范本区和描摹区,所述描摹区为镂空结构。本实用新型的画帖,将描摹区设置为镂空结构,将书写页设置于画帖页下方,书写时,将书写页设置于画帖页下方,描摹的图片或字体等位于下方的书写页上,对画帖页不影响,因此,可以重复使用。并且在描摹时,对书写页的厚薄无要求,直接沿着镂空区进行描摹即可,无需透过纸张看范本进行描摹,避免长时间书写造成的眼睛疲劳。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212990395 U (45)授权公告日 2021.04.16 (21)申请号 202021892062.5 (22)申请日 2020.09.03 (73)专利权人 王新敏 地址 45

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