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一种半导体清洗支架.pdfVIP

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  • 2023-02-27 发布于北京
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一种半导体清洗支架.pdf

    本申请属于半导体工艺技术领域，公开了一种半导体清洗支架，包括超声波清洁箱，所述超声波清洁箱的顶端两侧对称固定连接有支架本体，所述超声波清洁箱的顶端靠近背面一侧设置有喷淋管，所述超声波清洁箱的顶端中心处开设有清洗槽，所述支架本体的内部设置有升降机构，两个所述支架本体相对的一侧设置有承载载具，所述承载载具的两侧对称设置有壳体；两个所述壳体的内部设置有转动组件，所述转动组件包括第一齿轮和第二齿轮。将半导体放入承载载具后，转动第二旋钮，通过内部结构带动半导体转动至水平状态后，停止转动第二旋钮，此时矩形半

    (19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 218517382 U (45)授权公告日 2023.02.24 (21)申请号 202222593795.4 (22)申请日 2022.09.29 (73)专利权人 苏州盖锜智能科技有限公司 地址

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