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本实用新型涉及第三代半导体材料制备技术领域,尤指一种内嵌金属基氮化物材料外延衬底,包括衬底,衬底制有若干个凹坑,每个凹坑内依次生长有第一金属介质层、第二金属介质层和第三金属介质层,第三金属介质层在凹坑内生长至覆盖衬底。本实用新型解决第三代氮化物材料及器件散热差的问题,使氮化物材料及器件在工作过程中始终处于较低的结温状态,提高其可靠性及性能。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212967679 U
(45)授权公告日 2021.04.13
(21)申请号 202022428035.9
(22)申请日 2020.10.27
(73)专利权人 北京大学东莞光电研究院
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