一种硅片表面清洗烘干装置.pdfVIP

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  • 2023-02-27 发布于北京
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本实用新型公开了一种硅片表面清洗烘干装置,涉及硅片加工技术领域,该装置旨在解决现有技术下无法将硅片分散开来,硅片在清洗过程中容易堆积在一起,导致堆积在内部的硅片无法清理到位的技术问题。该装置包括储水罐、设置于储水罐上侧的清洗罐、设置于清洗罐上侧的顶盖、设置于顶盖上侧的烘干组件、设置于清洗罐内侧的清洗组件;其中,储水罐和清洗罐左侧设有连接水管,连接水管末端设有水泵,储水罐前侧设有进水口,储水罐右侧设有出水口,出水口上侧设有排污口,储水罐内侧设有过滤网。该装置通过清洗组件的设置,可以在清洗过程中对硅

(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 218517314 U (45)授权公告日 2023.02.24 (21)申请号 202222624175.2 (22)申请日 2022.09.29 (73)专利权人 安徽晶天新能源科技有限责任公

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