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套刻标记.pdfVIP

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  • 2023-02-27 发布于北京
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套刻标记.pdf

    本申请公开一种套刻标记，包括多个材料层分别设置的对准标记，至少一个材料层上的对准标记呈圆状结构；任意两层材料层上分别设置的对准标记用于测量这两层材料层之间的对准偏差。本申请所得的对准偏差具有较高的准确性，以此校准刻蚀过程中的偏差，有利于提高对应刻蚀工艺的精准度。

    (19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 218525584 U (45)授权公告日 2023.02.24 (21)申请号 202222565858.5 (22)申请日 2022.09.27 (73)专利权人 福建省晋华集成电路有限公司 地址

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