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一种光刻单透镜及光刻机透镜组.pdfVIP

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  • 2023-02-27 发布于北京
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一种光刻单透镜及光刻机透镜组.pdf

    本申请公开一种光刻单透镜及光刻机透镜组，属于光刻曝光技术领域。该光刻单透镜包括透镜主体，透镜主体由中心向四周依次划分为中心透镜部以及环绕中心透镜部设置的多个环状透镜部，至少一个环状透镜部的焦距不同于中心透镜部的焦距。本申请技术方案，其可大大降低光刻机工艺时对厚光阻的曝光次数，进而缩短整体工艺时间，提高生产效率及减少工艺成本。

    (19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 218524909 U (45)授权公告日 2023.02.24 (21)申请号 202222734832.9 (22)申请日 2022.10.17 (73)专利权人 广州粤芯半导体技术有限公司 地址

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