一种靶材真空喷涂生产设备.pdfVIP

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  • 2023-02-27 发布于北京
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本实用新型适用于喷涂设备技术领域,尤其涉及一种靶材真空喷涂生产设备,包括喷涂装置,所述靶材真空喷涂生产设备还包括壳体、端盖和转盘,端盖可拆卸连接在壳体的顶部,且端盖上设置有定位组件,转盘通过轴承转动设置在壳体内腔底部,且通过电机驱动,转盘上端固定有双轴电机,双轴电机的两个转动轴上通过丝杆连接有滑块,滑块与转盘滑动连接,滑块远离双轴电机的一侧设置有电动推杆,电动推杆靠近滑块的一端固定有定位块,喷涂装置设置在壳体外壁上,壳体内壁上至少设置有一组滑轨,滑轨上滑动连接有喷头,喷头与喷涂装置连接。本实用新

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212975629 U (45)授权公告日 2021.04.16 (21)申请号 202021631861.7 (22)申请日 2020.08.07 (73)专利权人 段翠桃 地址 51

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