原创力文档- 4
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- 2023-02-27 发布于北京
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本实用新型公开了一种微波等离子装置，包括反应室还包括：外框，设置于所述反应室的外部并连通所述反应室；盖板，所述盖板设置于所述外框上；介质层，所述介质层嵌设于所述外框的上表面；第一缓冲带，设置于所述介质层与所述盖板之间；第二缓冲带，环绕设置于所述介质层周侧。本实用新型通过设置第一缓冲带和第二缓冲带，可有效地解决介质层的内应力释放造成的爆裂问题，极大提高了介质层在微波装置中的力学性能和机械性能，提高了设备的使用寿命。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212991035 U
(45)授权公告日 2021.04.16
(21)申请号 202022070296.8
(22)申请日 2020.09.18
(73)专利权人 珠海越亚半导体股份有限公司
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