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- 2023-02-27 发布于四川
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本实用新型涉及一种复合衬底结构，其中，复合衬底包括低阻衬底层和高阻衬底层，用于生长氮化镓外延；其中，位于底部且较厚的低阻衬底层，可增加复合衬底的机械强度，可减小高温异质外延生长中，外延片的翘曲，从而获得更厚的氮化镓基薄膜，提高薄膜晶体质量，改善器件的特性；并可降低外延片表面温差，从而改善外延片均匀性；高阻衬底层作为氮化镓外延的基板和射频器件的最终支撑层，可保证氮化镓器件的射频特性。本实用新型实施为复合硅衬底时，可利用离子注入的方式对一定厚度的高阻衬底层进行转性，形成相应厚度的低阻层，部分增强高阻
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 212991102 U
(45)授权公告日 2021.04.16
(21)申请号 202022144764.1
(22)申请日 2020.09.25
(73)专利权人 厦门市三安集成电路有限公司
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