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- 2023-03-02 发布于四川
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本实用新型提供一种可过滤电镀液槽及晶圆电镀设备。该可过滤电镀液槽包括：底座；阳极，所述阳极安装在所述底座上；和过滤膜，所述过滤膜安装在所述底座上并位于所述阳极的轴向一侧，用于过滤电镀液中的杂质。本实用新型提供的可过滤电镀液槽及晶圆电镀设备中，电镀液进入电镀液槽后会经过过滤膜，可排除电镀液中的气泡等杂质。电镀液的气泡等杂质被去除，电镀液的分布均匀，可获得较佳的电镀效果。过滤膜为阳离子选择性半透膜，只允许阳离子通过，阻止高分子材料通过，尤其是阻止电镀液中的高分子添加剂通过，可避免高分子添加剂与阳极接
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213086164 U
(45)授权公告日 2021.04.30
(21)申请号 202020926690.4
(22)申请日 2020.05.27
(73)专利权人 上
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