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- 2023-03-02 发布于北京
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本实用新型公开了一种Si基垂直LED芯片,从下往上依次包括第一衬底层、n‑GaN层、多量子阱层、p‑GaN层、反射层、电流阻挡层、键合层、键合金属层和第二衬底层;其中,键合金属层为厚度比为0.15~0.2:1的Ni和Sn。能有效解决传统LED芯片研磨减薄后芯片严重翘曲,以至于造成芯片易破片良率低、效率低的问题,减轻LED芯片翘曲的程度。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213124475 U
(45)授权公告日 2021.05.04
(21)申请号 202020936172.0 H01L 33/00 (2010.01)
(22)申请日 2
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