原创力文档- 3
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- 2023-03-02 发布于四川
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本实用新型属于晶体生产领域，尤其是一种晶体生产加工用循环冷却装置，针对现有的采用冷水直接和晶体接触的方式进行冷却，冷水和晶体直接接触会影响晶体的性能，影响晶体生产加工的质量的问题，现提出如下方案，其包括底座，所述底座的顶部固定安装有冷却箱，且冷却箱上设有腔室，所述腔室的一侧内壁上固定安装有冷却通道，且冷却通道的外侧固定套设有冷却盘管，所述底座的顶部固定安装有水箱，且水箱位于冷却箱的一侧，冷却箱和冷却盘管之间密封连通有同一个循环冷却组件，本实用新型较之冷水接触式的晶体冷却装置，冷水会带走晶体热量的
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213067192 U
(45)授权公告日 2021.04.27
(21)申请号 202022016232.X
(22)申请日 2020.09.15
(73)专利权人 浙江一晶科技股份有限公司
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