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- 2023-03-02 发布于四川
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本实用新型涉及一种磁控溅射装置,尤其涉及一种旋转阴极磁场磁控溅射装置。包括靶材‑基体固定架、磁极旋转架和凸轮滑轨结构三个部分,靶材‑基体固定架是一个环形,内部一层安装待镀基体,外部一层安装靶材,且一一对应形成六个工作区,靶材‑基体固定架上端安装有加载电极,在靶材‑基体间形成稳定的电场,磁极旋转架通过滚动轴承和顶丝与靶材‑基体固定架同轴安装,并利用驱动皮带轮带动磁极旋转,凸轮滑轨结构是利用磁极上的凸轮柱在环形凸轮面上运动,使做旋转运动的磁极同时在滑轨上做上下直线运动,从而使均匀的磁场一直处于靶材的
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 218539808 U
(45)授权公告日 2023.02.28
(21)申请号 202223095856.0 (ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
(22)申请日 2022.11.22
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