原创力文档- 14
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- 2023-03-02 发布于北京
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本实用新型公开了一种个性化基台，包括本体，所述本体具有颊侧、舌侧、近中侧和远中侧，所述本体包括穿龈区域，所述穿龈区域呈柱状，所述穿龈区域的底部为圆形，所述穿龈区域的顶部为双曲抛物面，双曲抛物面的颊侧端点的高度为0.5～6.5mm，所述双曲抛物面的舌侧端点的高度为1～7mm且高于颊侧端点的高度，所述双曲抛物面的近中侧端点和远中侧端点高度相同且比舌侧端点高0～1mm。穿龈区域的顶部采用双曲抛物面设计，一方面可实现种植体袖口处的完美塑形，从而达到理想的解剖形态修复，有利于修复体边缘的自洁和清洁；另一方
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213098445 U
(45)授权公告日 2021.05.04
(21)申请号 202020804990.5
(22)申请日 2020.05.14
(73)专利权人 佛山市安齿生物科技有限公司
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