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- 2023-03-04 发布于四川
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本实用新型公开了一种用于镀膜设备的加热盘，包括盘体，内嵌于所述盘体内呈环形设置的多个加热件，多个所述加热件与所述盘体具有相同的圆心，且多个所述加热件沿所述盘体的径向方向由所述盘体的内侧向外侧相围绕设置，每一所述加热件的两端分别贯穿所述盘体的底面形成一组加热头，多个所述加热件相对应的多组所述加热头沿所述底面等间距设置。该加热盘结构简单，加工方便，降低了生产成本，且加热均匀、高效。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213172562 U
(45)授权公告日 2021.05.11
(21)申请号 202021515052.X
(22)申请日 2020.07.28
(73)专利权人 爱利彼半导体设备（中国）有限公
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