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- 2023-03-04 发布于四川
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公开了一种用于场效应晶体管的ESD防护结构以及场效应晶体管。该ESD防护结构,包括衬底,以及依次设置在衬底上的外延层、第一绝缘层、多晶硅层、第二绝缘层和两个电极,两个电极分别穿过第二绝缘层与多晶硅层连接,其中,多晶硅层为N型掺杂;多晶硅层中设有多个间隔设置的P型掺杂区,多个P型掺杂区沿某一电极朝向另一电极的方向排布,且P型掺杂区的底部位于多晶硅层中。本申请公开的ESD防护结构,通过在多晶硅层中形成多个深度小于多晶硅层厚度的P型掺杂区,不仅可以有效解决静电放电问题,而且还可以吸收栅源间的瞬间电压脉
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213184285 U
(45)授权公告日 2021.05.11
(21)申请号 202021675343.5
(22)申请日 2020.08.12
(73)专利权人 北京锐达芯集成电路设计有限责
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