涂敷、显影装置.pdfVIP

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2023-03-04 发布于四川
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本实用新型提供一种涂敷、显影装置。针对涂敷、显影装置简化装置结构。本实用新型的涂敷、显影装置具备层叠起来的6个以上的处理模块。6个以上的处理模块包括在层叠方向上相邻的两个第1处理模块、两个第3处理模块以及两个第2处理模块。两个第1处理模块具备向基板涂敷抗蚀剂的多个涂敷处理部和在两个第1处理模块处输送基板的第1输送部。两个第2处理模块具备：多个显影处理部和多个涂敷处理部这两者中的任一者，该显影处理部对由涂敷处理部涂敷抗蚀剂并由曝光装置实施了曝光处理的基板实施显影处理；和第2输送部，其在两个第2处理

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213149472 U (45)授权公告日 2021.05.07 (21)申请号 202021877174.3 G03F 7/40 (2006.01) (22)申请日 20