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- 2023-03-05 发布于北京
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本申请公开了一种足浴系统，该足浴系统包括足浴器和干燥基座，干燥基座包括基座本体和干燥组件，基座本体设置有容置空间，容置空间用于容置足浴器，干燥组件上设置有出风口，出风口与容置空间连通，以对足浴器进行烘干或风干；该干燥基座通过出风口向足浴器吹风直接对足浴器进行烘干或风干，缩短了足浴器的干燥时间，降低了足浴器的足浴腔因潮湿而滋生细菌的可能；通过容置空间容置足浴器，减小了足浴器干燥时以及收纳状态下占用的位置。
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 218552171 U
(45)授权公告日 2023.03.03
(21)申请号 202222933233.X
(22)申请日 2022.11.03
(73)专利权人 佛山市星曼信息科
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