一种真空自耗炉的操作柜台.pdfVIP

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  • 2023-03-05 发布于北京
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本实用新型公开了一种真空自耗炉的操作柜台,所述真空自耗炉的操作柜台包括固定在地面上底座、设置在底座上的柜体、设置在柜体顶部的控制平台、设置在控制平台上的操作设备和设置在控制平台上的监控设备,所述控制平台包括操作平台和监控平台,所述监控平台设置在柜体顶部、所述操作平台设置在柜体侧上方,所述操作平台下方悬空,所述监控平台呈梯形,所述监控平台的斜面朝向操作平台一侧,所述监控设备设置在监控平台的顶面上,所述操作设备设置在操作平台上,所述操作平台的顶面距离地面800‑840mm。本实用新型公开的一种真空自

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213203159 U (45)授权公告日 2021.05.14 (21)申请号 202021126015.X (22)申请日 2020.06.17 (73)专利权人 上海鑫蓝海自动化科技有限公司

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