- 1
- 0
- 约8.34千字
- 约 7页
- 2023-03-05 发布于北京
- 举报
本实用新型涉及半导体光电子器件技术领域,尤其涉及一种850nm波段高响应度探测器,其不同之处在于:其包括位于探测器最底端的n型衬底,所述n型衬底上由下至上依次包括氧化铝层、n型接触层、n型DBR层、下限制层、吸收层、上限制层、p型接触层和增透膜层,还包括n型电极层和p型电极层,所述n型电极层位于所述n型接触层上且位于所述n型DBR层的一侧,所述p型电极层位于p型接触层上且位于所述增透膜层的一侧。本实用新型提高响应速率,有助于抗辐照低暗电流高响应度探测器的实现。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213212172 U
(45)授权公告日 2021.05.14
(21)申请号 202022611244.7
(22)申请日 2020.11.12
(73)专利权人 江
您可能关注的文档
最近下载
- 波司登抖音中心新人培训(难)考试试题(含答案解析).doc VIP
- 2026年福建省省情试题及答案.doc VIP
- GB 50300-2013建筑工程施工质量验收统一标准.pdf VIP
- 第七单元 习作: 我最喜爱的季节 课件 统编版语文五年级上册.pptx VIP
- 2025中国临床肿瘤学会(CSCO)癌性心包积液诊疗指南.docx
- 19D701-2_母线槽安装-标准图集.docx VIP
- GB50974-2014 消防给水及消火栓系统技术规范.pdf VIP
- 2025年中国热镀锌线数据监测报告.docx
- 中小学汉字书写教学规范.pptx VIP
- (26新)六年级上册_人教精通版_单词字帖衡水体.pdf VIP
原创力文档

文档评论(0)