光刻机.pdfVIP

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  • 2023-03-05 发布于北京
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本实用新型涉及光刻机。所述光刻机可以包括用于电接触式对准的配置,以用于相对于基板使探针、笔、尖端等的阵列调平对准,该光刻机包括机构,该机构用于相对于彼此定位探针阵列或基板,以使探针阵列和基板彼此平行地自动对准,从而用于随后的光刻制造,其中,通过将阵列的区域和基板区域配置成部分地导电并连接至相对的电极而形成多个独立的电路,反之亦然。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213240799 U (45)授权公告日 2021.05.18 (21)申请号 202021198211.8 (22)申请日 2020.06.24 (73)专利权人 泰拉印刷有限责任公司

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