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- 2023-03-05 发布于北京
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本实用新型涉及引线框架技术领域,且公开了一种半蚀刻引线框架,包括框架,所述框架的上部开设有导流槽,所述导流槽的一端与导流口固定连通,所述导流口开设在坡板的一侧,所述坡板的一侧固定安装有第一垫片,所述第一垫片的上侧内部固定安装有散热片,所述第一垫片的上端固定安装有第二垫片。该半蚀刻引线框架,通过在框架的上表面开设有导流槽,且导流槽与导流口进行连通,便于对导流槽上将多余的电镀液进行导流,并通过导流口统一流出,增加了装置表面液体的流动速度,便于装置进行加工,且第一垫片的上部设有散热片,便于在第一垫片将
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213212156 U
(45)授权公告日 2021.05.14
(21)申请号 202022343676.4
(22)申请日 2020.10.20
(73)专利权人 泰州东田电子有限公司
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