原创力文档- 7
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- 2023-03-05 发布于北京
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本实用新型提供了一种用于光刻胶涂胶托盘的清洁盘及清洁装置，所述清洁盘包括正面盘和背面盘，所述背面盘表面设置有中心圆形区和外圈环形区，所述外圈环形区靠近所述清洁盘外边缘处设置有凸起环形区，所述凸起环形区表面分布设置有多个凸起颗粒，所述正面盘靠近外边缘处设置有环形凸台结构，所述环形凸台结构表面设置有多个倾斜孔道，所述倾斜孔道插入并贯穿所述清洁盘，所述清洁装置包括上述的清洁盘，还包括承片台、清洁液喷洒机构、调节旋转机构，本实用新型的清洁盘及清洁装置对光刻胶涂胶托盘具有良好的清洁效果，缩短了清洗时间。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213222923 U
(45)授权公告日 2021.05.18
(21)申请号 202021177746.7
(22)申请日 2020.06.23
(73)专利权人 沈阳芯源微电子设备股份有限公
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