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真空溅射沉积装置.pdfVIP

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  • 2023-03-05 发布于北京
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真空溅射沉积装置.pdf

    本实用新型公开一种真空溅射沉积装置，包括室体，室体上设置有支撑托架，支撑托架上设置有绝缘衬套，绝缘衬套的一侧设置有背板，背板远离绝缘衬套的一侧设置有靶材，绝缘衬套内嵌设有加强板，加强板上开设有第一螺纹孔，绝缘衬套上开设有与第一螺纹孔连通的第一避让孔，背板上开设有第一固定孔，背板与加强板通过第一螺钉连接，第一螺钉依次穿过第一固定孔和第一避让孔旋拧至第一螺纹孔内。通过在绝缘衬套内嵌入一个加强板，加强板的强度大于绝缘衬套的强度，而在加强板上开设第一螺纹孔，使得第一螺钉避开绝缘衬套直接与加强板连接，在背

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213203181 U (45)授权公告日 2021.05.14 (21)申请号 202022770945.5 (22)申请日 2020.11.25 (73)专利权人 乐金显示光电科技（中国）有限公

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