密封槽及半导体真空设备.pdfVIP

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2023-03-06 发布于四川
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密封槽及半导体真空设备.pdf

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本实用新型提供了一种密封槽，所述密封槽的开口端设有压合件，所述密封槽内放置密封圈，所述密封圈高于所述密封槽的顶端面并与所述压合件贴合，所述密封槽的内侧面设有至少一个缓冲部，所述缓冲部向所述密封槽的内侧面内凹陷。本实用新型通过在所述密封槽的内侧面设置向内侧面内凹陷的缓冲部，为膨胀变形的密封圈提供了缓冲空间，可有效地减缓密封圈的内部受力，减缓密封圈因受力积累而造成的损伤，从而延长密封圈的使用寿命，保障了密封圈的密封效果。本实用新型还提供了一种半导体真空设备，所述半导体真空设备包括真空箱和与所述真空箱

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213242508 U (45)授权公告日 2021.05.18 (21)申请号 202022828524.3 (22)申请日 2020.11.30 (73)专利权人上海诺硕电子科技有限公司