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- 2023-03-07 发布于四川
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本实用新型公开了一种高精度单晶硅双面加工抛光机,包括机体,所述机体前端上方壁体内设有防护门,所述机体一侧上方壁体中设有控制杆,所述控制杆内设有防误触机构,所述防误触机构包括套环与固定环,所述机体顶部一侧设有抛光箱,所述机体顶部后端一侧设有升降杆,所述机体顶部后端另一侧设有控制箱,所述控制杆后端上方壁体与前端下方壁体中分别开设有移动槽。本实用新型所述的一种高精度单晶硅双面加工抛光机,涉及抛光机设备技术领域,通过防误触机构的设置,能够通过套环与按压块的设置,能够对其控制杆进行双重的防误触设置,能够有
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213289858 U
(45)授权公告日 2021.05.28
(21)申请号 202021749264.4
(22)申请日 2020.08.20
(73)专利权人 浙江众晶电子有限公司
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