- 2
- 0
- 约7.02千字
- 约 6页
- 2023-03-07 发布于四川
- 举报
本实用新型公开了半导体材料提纯技术领域的一种材料提纯大型连续化区熔炉,包括底板,所述底板的顶部一侧固定连接有支撑柱,所述底板顶部的另一侧固定连接有第二电机,所述底板顶部位于支撑柱和第二电机之间开设有滑槽,通过启动第一电机,使得第一电机带动转动轴和第三齿轮转动,并通过第三齿轮带动滑动齿板在底板内部做水平往返运动,从而可以带动第一支撑杆移动,进而使得高频加热线圈的位置可以均匀移动,并且操作人员可以通过旋转开关控制第一电机的功率从而控制高频加热线圈移动的速率,从而使得操作人员在对不同材料进行区熔时可以
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213266779 U
(45)授权公告日 2021.05.25
(21)申请号 202022204559.X
(22)申请日 2020.09.30
(73)专利权人 云南全控机电有限公司
原创力文档

文档评论(0)