防污抗沾黏保护镀膜.pdfVIP

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  • 2023-03-07 发布于四川
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本实用新型提供一种防污抗沾黏保护镀膜,其结构包括:一接口层、一反射层、复数个第一覆层、以及复数个第二覆层。本实用新型之防污抗沾黏保护镀膜具有良好防污以及抗沾黏能力,是以能够被应用在光电及半导体产业的黄光曝光制程的光罩传送盒中,例如:深紫外(DUV)曝光制程、极紫外(EUV)曝光制程、沉浸式曝光制程、多重曝光制程,该防污抗沾黏保护镀膜用于保护上述任一种黄光曝光应用之光罩传送盒并确保黄光制程之良率。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213266700 U (45)授权公告日 2021.05.25 (21)申请号 202021928717.X (ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利 (22)申请日 2020

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