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用于氢化物气相外延的均匀生长反应器.pdfVIP

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  • 2023-03-08 发布于四川
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用于氢化物气相外延的均匀生长反应器.pdf

    本实用新型公开了用于氢化物气相外延的均匀生长反应器，它包括：石英腔（1）；所述石英腔内设有均气环（2），所述均气环的环面上均布有若干通孔（3），所述石英腔的底部开设有两个排气口，所述两个排气口上连通有Y型排气管（4）的两个分管，所述Y型排气管的主管与外界连通。本实用新型的有益效果是石英腔中加装集气环，改善制程气体分布的均匀性；将HVPE的底座单排气口改成对称的双排气口。单尾气管路改成Y型双尾气管路，增大尾气管路的直径，同时双边排气，降低因单边排气造成管路堵塞而触发尾气压力偏高的报警；改善制程气体

    (19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213327930 U (45)授权公告日 2021.06.01 (21)申请号 202022170723.X (22)申请日 2020.09.28 (73)专利权人 镓特半导体科技（铜陵）有限公司

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