清洗离子源挡板.pdfVIP

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  • 2023-03-09 发布于四川
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本实用新型公开了清洗离子源挡板,包括离子源、第一驱动气缸、第二驱动气缸、第一挡板和第二挡板,所述离子源的后侧面的两侧顶端分别固定安装有第一驱动气缸和第二驱动气缸,所述第一驱动气缸上转动安装有第一旋转轴,所述第二驱动气缸上转动安装有第二旋转轴。本实用新型通过加装第一挡板和第二挡板,在第一驱动气缸和第二驱动气缸的驱动下可发生偏转,将离子源完全遮蔽或者暴露,具有结构简单以及成本低廉的特点,能够有效保护离子源沟道免受污染,提高离子源的使用周期;通过设置第一锁块与第二锁块,在打开装置或闭合装置时,只需移动

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 213388859 U (45)授权公告日 2021.06.08 (21)申请号 202021905526.1 (22)申请日 2020.09.02 (73)专利权人 山东司莱美克新材料科技有限公

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