原创力文档- 0
- 0
- 约5.1千字
- 约 7页
- 2023-03-10 发布于北京
- 举报
本实用新型提出一种浅层立柱装置，下部埋设于地层中，包括：混凝土层、固定部以及立柱；混凝土层呈圆柱体，上表面设有圆柱形凹槽，埋设于地层中；固定部下部与混凝土层的圆柱形凹槽相匹配，固定部下部为带有底面的圆柱形管道，管道内壁设置有限位块；固定部下部埋设于混凝土层的圆柱形凹槽中；立柱放置于固定部的圆柱形凹槽中，并通过固定部上的限位块固定。本实用新型提出的一种浅层立柱装置，结构稳定、承载能力强，并且能够快速建设完成，有效缩短了建筑工程的建设时长。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213417875 U
(45)授权公告日 2021.06.11
(21)申请号 202021827297.6
(22)申请日 2020.08.27
(73)专利权人 四川中科正旋建设工程有限责任
文档评论（0）