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本实用新型公开了一种全耗尽型PIN光电二极管,具体涉及半导体器件技术领域,其技术方案是:包括衬底材料和P型埋层,所述衬底材料上端离子注入所述P型埋层,所述P型埋层上端淀积外延层,所述外延层上端离子注入N型保护环和有源区,所述外延层上端淀积氮化硅层,所述氮化硅层内壁设有正面电极,所述衬底材料下端设有背面电极,所述衬底材料设置为低电阻率的N型硅材料,所述P型埋层与所述衬底材料之间形成PN结,本实用新型有益效果是:通过P型埋层与衬底材料之间形成PN结,减小扩散区面积,具有增加硅基光电二极管响应速度的作
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号 CN 213401223 U
(45)授权公告日 2021.06.08
(21)申请号 202022952421.8
(22)申请日 2020.12.11
(73)专利权人 西安迈驰半导体科技有限公司
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